全球最先進半導體晶片設計設備運抵紐約州奧爾巴尼奈米技術中心
紐約州經發廳公告，荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)系統首項重要零件主底座模組運抵半導體研發公私協力機構NY Creates營運之奧爾巴尼奈米科技綜合園區(Albany NanoTech Complex)，標誌紐約推動美國下世代半導體創新邁出關鍵一步。
奧爾巴尼奈米科技綜合園區擁有全美首座公有高數值孔徑極紫外光微影技術中心，該中心由紐約州投資10億美元，並帶動90億美元產業投資，同時創造數百個全新就業。本次重要零件運抵，標示實現尖端技術能力進入下階段，有助下世代半導體技術創新，進而打造速度更快、效率更高，且價格更實惠晶片。
本年稍早半導體設備供應商東京威力科創(Tokyo Electron, Ltd.)製造首項系統零件送抵奧爾巴尼奈米科技綜合園區，其他零件將在本年夏季陸續抵達；該系統將支援革命性技術，推動次奈米(sub-1 nanometer)晶片研發，係未來先進半導體發展關鍵技術。(資料來源：經濟部國際貿易署)
